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G-30D4型高精密單面光刻機

簡介—— 一、 主要用途:本設備是我公司專門針對各生產單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它主要用于中小規模集成電路、半導

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一、 主要用途:

本設備是我公司專門針對各生產單位對光刻機的使用特性研發的一種赛马会原创单双中特,它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。

二、 主要性能指標

1、曝光類型:雙面、一次曝光;

2、曝光面積:110×110mm;

3、曝光照度不均勻性:≤±3%;

4、曝光強度:≤30mw/cm2可調;

5、紫外光束角:≤3?;

6、紫外光中心波長:365nm;

7、紫外光源壽命:≥2萬小時;

8、工作面溫度:≤30℃

9、采用電子快門;

10、曝光分辨率:2μm(曝光深度為線寬的10倍左右)

11、曝光方式:接觸曝光;

12、掩模版尺寸:≤127×127mm;

13、基片尺寸:≤ Φ100mm;

14、基片厚度:≤5 mm;當您的基片厚度≤1mm時,我公司為本機配置標準承片臺(不另計費),當基片厚度>1mm時,設備需配置專用承片臺(訂貨時用戶須說明,費用另議)。

15、曝光定時:0~999.9秒可調;

16、電源:單相AC220V  50HZ ,功耗≤1.5KW;

17、潔凈空氣壓力:≥0.4MPa;

18、真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;

19.設備所需能源:

主機電源: 220V±10%   50HZ,1.5KW。

真空:-0.07~-0.08MPa。

20.設備外形尺寸:1300X720X1600mm(長X寬X高)

20. G-30D4型高精密雙面光刻機的組成:

由LED紫外曝光頭、移動工作臺、機架、電氣控制系統構成。

21.附件如下:

主機附件:(出廠時安裝到機器上)

127×127mm移動工作臺

1臺LED紫外曝光頭。




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