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G-33B4型高精密雙面光刻機

簡介—— 一、主要用途:(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一

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一、主要用途:

(1) 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機;

(2) 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作;

(3) 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。

二、主要性能指標:

(1) 高均勻性曝光頭。

a、 采用350W直流球形汞燈;

b、 出射光斑≤φ117mm;

c、 光強≥5mw;

d、 光的不均勻性≤±3%;

e、 曝光時間采用0~999.9秒(日本OMRON生產)時間繼電器控制。

f、 對準精度:±0.5μm

g、 套刻精度:2μm

(2) 觀察系統為上下各兩個無級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為1.6X~10X連續變倍顯微鏡;

b、 CCD攝像機靶面對角線尺寸為:1/3″;

c、 采用19″液晶監視器,其數字放大倍率為19÷1/3=57倍;

d、 觀察系統放大倍數為:1.6×57=91倍(最小倍數)

10×57=570倍(最大倍數);

(3)計算機硬軟件系統:

a、鼠標單擊“開始對準”,能將監視屏上的圖形記憶下來,并處理成透明的,以便對新進入的圖形進行對準;

b、鼠標雙擊左面或右面圖形,就分別全屏顯示左或右面圖形。

(4)非常特殊的板架裝置:

a、該裝置裝入 125×125板架,對版進行真空吸附;

b、該裝置安裝在機座上,能圍繞A點作翻轉運動,相對于承片臺而言作上下翻轉運動,以便于上下版和上下片;

c、該裝置來回反復翻轉,回到承片臺上平面的位置,重復精度為≤±1.5μ;

d、該裝置具有補償基片楔形誤差之功能,保證版下平面與片上平面之良好接觸,以便提高曝光質量。

(5)承片臺調整裝置:

a、 配備有Φ100承片臺一個,這種承片臺有二個長方孔,下面二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面;

b、 承片臺能作X、Y、Z、θ運動,X、Y、Z可作±5mm運動,θ運動為±5°;

c、 承片臺密著環相對于版,能實現“真空密著”:

真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸;

真空密著力≤-0.05Mpa~-0.02Mpa為軟接觸;

真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸;




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